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分子式：H2O2  含量：27-50%
CAS NO：7722-84-1 包裝：4L/瓶　1000L/桶　tank罐
用途：電子級(jí)過(guò)氧化氫是微電子行業(yè)中一種十分重要的高純?cè)噭饕米靼雽?dǎo)體硅晶片清洗劑，蝕刻劑和光刻膠去除劑，還可用于高級(jí)絕緣層制取，電鍍液無(wú)機(jī)雜質(zhì)去除，電子行業(yè)中銅、銅合金和鎵、鍺的處理，以及太陽(yáng)能硅晶片的蝕刻和清洗。在處理過(guò)程中，試劑中的雜質(zhì)會(huì)對(duì)元器件性能產(chǎn)生致命影響，因此，過(guò)氧化氫對(duì)純度的要求相對(duì)較高。